產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
勻膠顯影儀是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
詳情介紹：
勻膠顯影機 型號：SC100-DE
SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序，使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義；同類產(chǎn)品中**的大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和高的可重復(fù)性。
主要性能指標：
主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）
旋涂程序：多可存100組程序，每組100步，每個步驟可到0.1秒
轉(zhuǎn)動速度：0-10,000rpm（更高速可選）
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm
工藝時間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）
標準配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）
產(chǎn)品特性優(yōu)點：
主機在SC100-SE勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果
可實現(xiàn)多**立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進行氮氣吹干
控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作，使用更加方便
顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進行配置
提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計
高可靠性和重復(fù)性，高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選
可添加去邊膠和背膠清洗功能
SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。
不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序，使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義；同類產(chǎn)品中**的大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和高的可重復(fù)性。
主要性能指標：
主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）
旋涂程序：多可存100組程序，每組100步，每個步驟可到0.1秒
轉(zhuǎn)動速度：0-10,000rpm（更高速可選）
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm
工藝時間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）
標準配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）
產(chǎn)品特性優(yōu)點：
主機在SC100-SE勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果
可實現(xiàn)多**立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進行氮氣吹干
控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作，使用更加方便
顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進行配置
提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計
高可靠性和重復(fù)性，高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選
可添加去邊膠和背膠清洗功能
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聯(lián)系人：王汝玄
聯(lián)系電話：18910554055 18910534055 18611444986
傳真號碼：010-68467699
移動電話：18611444986
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